Исследование температурной зависимости компонента Мандельштама-Бриллюэна в стеклующемся пиколине

Особенности во внутренней структуре вещества отражаются в спектрах рассеяния света. Так неподвижные или медленно меняющиеся флуктуации ответственны за появление в спектрах рассеянного света уширенного центрального пика, распространение звука в веществе приводит к появлению дублета Мандельштама – Бриллюэна, вследствие релаксационных процессов возникает крыло линии Рэлея. Таким образом, располагая спектром рассеяния, можно с различных сторон описать внутреннюю динамику рассматриваемого вещества.

В настоящее время большой интерес вызывает изучение стеклующихся веществ. Важнейшей характеристикой процесса стеклования является температурная зависимость коэффициента вязкости. В маловязком состоянии материала она подчиняется аррениусовскому закону, но ниже некоторой температуры, названной ТA, наблюдается отклонение от аррениусовской зависимости. Столь важная особенность изучается, однако к настоящему моменту не имеет общепринятого объяснения. Исследования стеклующихся материалов проводятся, в основном, в окрестности температуры стеклования. Поэтому подробное исследование процесса стеклования в окрестности ТA представляется актуальным.

В окрестности температуры ТА особенности наблюдаются не только в экспериментах по изучению вязкости. Так, в работе [1] обнаружены особенности при изучении неоднородного уширения колебательного возбуждения в спектрах КРС в a - пиколине и сделано предположение о том, что в окрестности температуры TA ~250K в веществе возникают неоднородности нанометрового масштаба. В этом случае на образовавшихся кластерах будет происходить дополнительное релеевское рассеяние, которое мы сможем наблюдать при исследовании рассеяния Мандельштама – Бриллюэна.

Настоящая работа посвящена изучению температурной зависимости рассеяния Мандельштама - Бриллюэна в a - пиколине. Экспериментально получены температурные зависимости отношения Ландау - Плачека и скорости звука в исследуемом веществе. Результаты можно интерпретировать возникновением неоднородностей нанометрового масштаба при охлаждении вещества и резким возрастанием количества таких неоднородностей в окрестности температуры ТА.

• Стеклующиеся материалы. Коэффициент вязкости
• Образование интерференционной картины
• Сканирование интерферометра
• Алгоритм программы
• Измерения
• Выводы